电容式触摸屏功能片制作工序3D示意图解
在电容式触摸屏生产中，利用传统的精密集成电路生产方式进行生产的产品，在响应速度、精准度、功耗、使用寿命、产品性能稳定性和再现性等几方面，有比较好的表现。所以，电容式触摸屏在大多数设计成熟的品牌终端应用中，都会倾向于选用这种生产方式生产的产品。
传统的精密集成电路生产方式中，关键部分都是集中在这几个方面：产品由很多不同的材料，一层一层的沉积堆栈形成，有化学沉积、真空沉积等多种加工方式；不同功能材料层间的有不同的光罩进行曝光、显影、蚀刻加工出该层所需要的图案，以实现功能不同层功能材料、线路间的导通与遮蔽等。
因这种生产方式，光罩加工部分需要在黄光房里进行，所以俗称黄光制程。
在市面上出现的双面ITO、搭桥类、COVERLENS ITO类等同样利用光罩加工出来的产品，所用的工艺与技术基本上跟这个相同，只是不同层间的材料选择与光罩图案设计上的差异而已。
下面是以一个电容式触摸屏功能单片为例，切开产品一角，按不同的工序进行的3D示意拆解图例。
1、用真空镀膜方式在玻璃基板上溅镀上底层ITO镀层：
2、利用旋涂方式，在ITO玻璃基板上，制作光刻胶层：
3、光刻胶平行曝光显影：
4、ITO层蚀刻功能图案：
5、光刻胶层脱膜后，蚀刻好的ITO基板：
6、制作保护隔断层：
7、涂覆光刻胶：
8、隔断层图案曝光显影：
9、隔断层蚀刻：
10、光刻胶脱膜后的隔断层图案：
11、真空溅镀钼铝钼线路层：
12、涂覆光刻胶：
13、光刻胶曝光显影：
14、钼铝钼层线路蚀刻：
16、制作隔断保护层：
18、光刻胶曝光显影：
20、制作好的单面成品：
