性能卓越的石墨烯（graphene）和聚四氟乙烯（Teflon）被融合在一种新材料中，研制者是今年诺贝尔物理学奖得主。

　　考斯特·诺沃塞罗夫（Novoselov）和安德烈·盖姆（Andre Geim）都在英国曼彻斯特大学工作，他们首次分离出石墨烯是在2004年。这是一项复杂的工作，就像人们预期的，诺贝尔奖也成了一个回报，它确实要使用粗胶带，一次剥离表面一层。他们发现，石墨烯是最薄和强形态的碳，而且导热性好过其他任何已知的材料。作为一种电导体，它的性能很好，就像铜。他们最近的努力，制成了一种新的衍生材料，硬度相同，而且稳定性超过了原来的石墨烯，但完全不导电，这就是所谓的氟代石墨烯（fluorographene）。

　　石墨烯本身是一种单原子层的石墨材料，通常看到的，是用在铅笔上。在分子水平上，它有一种平坦的蜂窝状结构，连接成六边形的碳原子就处在顶点。云状的电子传遍上下表面，这就是为什么这种材料导电性那么好。

　　目前的这项成就是属于曼彻斯特大学的一个团体，这个团体紧密携手国际合作者，他们的成就，就是把一个氟原子放在每一个单独的碳原子上，这样就消除了电子云，也会防止电流的常态流动，但不影响结构上完整的碳架构。在以前的工作中，他们放的是氢原子而不是氟原子，但发现生成的材料在高温下不稳定。

　　最新的突破发表在本周的《小》（Small）杂志上。拉胡尔·拉韦德兰-耐尔（Rahul Raveendran-Nair）是曼彻斯特大学的研究生，负责该文发表。他描述，氟代石墨烯是“最薄的绝缘体，制备方法是把氟原子安装到石墨烯中的每一个碳原子上。它是世界上第一个用化学计量方法制成的石墨烯衍生化合物，也是一个宽禁带（wide-gap）半导体器件。氟代石墨烯是一种机械性强硬，化学和热学性能稳定的化合物。这种新材料性能非常类似聚四氟乙烯（Teflon），我们称之为二维聚四氟乙烯。”

　　开发一种合适的方法，来制备这种二维铁氟龙并不简单。“氟是一种高度活跃的元素，它几乎与所有物质起反应。所以，主要的挑战是，要完全氟化石墨烯，而又不能损坏石墨烯和支撑它的基片。我们氟化单层石墨烯膜，基片是化学上呈惰性的支承格栅和很厚的石墨烯纸，是在高温下进行，这就克服了这一技术问题，”拉韦德兰-耐尔说。

　　这位作者设想，氟代石墨烯将用于电子产品，但他承认，“对于实际的电子应用而言，它的电子质量必须改进。我们希望，这很快就可以实现。一些可能的电子应用会用氟代石墨烯，就是用作隧道障碍（tunnel barrier），或作为高质量的绝缘体或屏障材料，用于有机电子产品。”其他领域的应用也是可能的。例如，作为一种宽禁带半导体，它对于可见光是完全透明的，氟代石墨烯也可以用于发光二级管和显示器。